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上海思峻機(jī)械設(shè)備有限公司

主營產(chǎn)品: 乳化機(jī),分散機(jī),均質(zhì)機(jī),膠體磨,粉液混合機(jī),研磨分散機(jī)

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公司信息

聯(lián)人:
葛月根
址:
上海市嘉定區(qū)朱戴路900號(hào)
編:
201800
鋪:
http://www.nfeggs.com/st166906/
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GMD2000/4高新精細(xì)氧化鎂研磨分散機(jī)
高新精細(xì)氧化鎂研磨分散機(jī)
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào) GMD2000/4
  • 品牌
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 上海市

聯(lián)系方式:葛月根查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間:2017-04-26 09:12:52瀏覽次數(shù):525

聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說明是食品機(jī)械設(shè)備網(wǎng)上看到的信息,謝謝!

【簡(jiǎn)單介紹】
高新精細(xì)氧化鎂研磨分散機(jī)在分散氧化鎂時(shí)通過14000rpm超高的轉(zhuǎn)速形成的*剪切力使物料在0.2-0.3mm極細(xì)的定轉(zhuǎn)子間隙中形成每分鐘數(shù)以 萬次的撞擊、破碎、撕裂,將原本抱團(tuán)的納米級(jí)氧化鎂進(jìn)一步的破碎,打開團(tuán)塊形成納米級(jí)顆粒狀,為防止被打碎的納米級(jí)氧化鎂顆粒再次抱團(tuán),我們?cè)谘?磨后又加了一級(jí)分散均質(zhì)盤,對(duì)物料進(jìn)行*的分散,阻止物料再進(jìn)行二次抱團(tuán)。
【詳細(xì)說明】

一、設(shè)備供應(yīng):

 

高新精細(xì)氧化鎂納米研磨分散機(jī),納米科研級(jí)氧化鎂乳化機(jī),氧化鎂納米研磨分散機(jī),氧化鎂納米分散均質(zhì)設(shè)備

 

二、應(yīng)用領(lǐng)域:

 

隨著產(chǎn)業(yè)化升級(jí)及*功能材料市場(chǎng)的需求和發(fā)展,研發(fā)生產(chǎn)出一系列高新精細(xì)氧化鎂產(chǎn)品,主要用于高級(jí)潤滑油、高級(jí)鞣革提堿級(jí)、食品級(jí)、醫(yī)藥級(jí)、硅鋼級(jí)、高級(jí)電磁級(jí)、高純氧化鎂等近十個(gè)品種組成。

三、設(shè)備介說明:

 

SGN德國納米科研級(jí)氧化鎂研磨分散機(jī)在分散氧化鎂時(shí)通過14000rpm超高的轉(zhuǎn)速形成的*剪切力使物料在0.2-0.3mm極細(xì)的定轉(zhuǎn)子間隙中形成每分鐘數(shù)以 萬次的撞擊、破碎、撕裂,將原本抱團(tuán)的納米級(jí)氧化鎂進(jìn)一步的破碎,打開團(tuán)塊形成納米級(jí)顆粒狀,為防止被打碎的納米級(jí)氧化鎂顆粒再次抱團(tuán),我們?cè)谘?nbsp;磨后又加了一級(jí)分散均質(zhì)盤,對(duì)物料進(jìn)行*的分散,阻止物料再進(jìn)行二次抱團(tuán)。氧化鎂分散的越細(xì)越均一,對(duì)于后期做應(yīng)用性能就越好!

 

四、影響納米材料分散要素:

 

1、分散介質(zhì)

(1)根據(jù)粘度不同,分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中,如水和有機(jī)溶劑,納米材料易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等,高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。

2、分散劑

(1)分散劑的選擇,與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關(guān)。

(2)分散劑的用量,與納米材料比表面積和共價(jià)鍵修飾的功能基團(tuán)有關(guān)。

(3)水性介質(zhì)中,*使用TNWDIS。強(qiáng)極性有機(jī)溶劑中,如醇、DMF、NMP, *使用TNADIS。

3、分散設(shè)備

上海SGN思峻)機(jī)械設(shè)備有限公司專門應(yīng)對(duì)納米材料分散開發(fā)的高剪切三級(jí)分散機(jī)GMD2000系列適合大規(guī)模地分散納米氧化鋁,納米氧化鋅,納米氧化鈰,納米氧化鐵,納米氧化鉍,納料ATO合金等產(chǎn)品。納米金屬粉體、碳納米管、高純Al2O3、高純納米TiO2系列粉體、超活性納米TiO2催化劑、納米TiO2液體、納米TiO2銀抗菌劑、納米高純ZrO2、超細(xì)高純ZrO2、納米涂層材料、納米載銀抗菌粉、納米SiO2、納米ZnO、光觸媒、納米三防整理劑等系列粉體、液體、制劑在中、低粘度介質(zhì)里的分散。

技術(shù)及價(jià)格請(qǐng)來電:劉  ,公司有樣機(jī)可供客戶購前實(shí)驗(yàn),歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo)!

高新精細(xì)氧化鎂研磨分散機(jī)是高效、快速、均勻地將一個(gè)相或多個(gè)相固體進(jìn)入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程的設(shè)備的設(shè)備。

當(dāng)其中一種或者多種材料的細(xì)度達(dá)到微米數(shù)量級(jí)時(shí),甚至納米級(jí)時(shí),體系可被認(rèn)為均質(zhì)。當(dāng)外部能量輸入時(shí),兩種物料重組成為均一相。高剪切均質(zhì)機(jī)由于轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機(jī)械效應(yīng)帶來的強(qiáng)勁動(dòng)能,使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強(qiáng)烈的機(jī)械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,形成懸浮液。高剪切均質(zhì)機(jī)從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)熟工藝和適量添加劑的共同作用下,瞬間均勻精細(xì)的分散均質(zhì),經(jīng)過高頻管線式高剪切分散機(jī)的循環(huán)往復(fù),zui終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。

 

五、高新精細(xì)氧化鎂研磨分散機(jī)設(shè)備參數(shù):

 

型號(hào)

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

GMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

 

 

信息來源:www.sgnprocess。。cn

 



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