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納米ATO分散液高速剪切研磨分散機,ATO高剪切納米分散設(shè)備廠家

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  • 型號 ERX2000
  • 品牌
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 上海

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更新時間:2017-06-13 15:54:18瀏覽次數(shù):532

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產(chǎn)品簡介

納米ATO分散液高速剪切研磨分散機,ATO高剪切納米分散設(shè)備廠家,納米ATO高速分散機,ATO高剪切分散機,ATO高速高剪切分散機是是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的物質(zhì)的混合過程。工業(yè)分散的目標(biāo)是在連續(xù)相中實現(xiàn)“令人滿意的"納米精細分布。

詳細介紹

納米ATO分散液高速剪切研磨分散機,ATO高剪切納米分散設(shè)備廠家,納米ATO高速分散機,ATO高剪切分散機,ATO高速高剪切分散機是是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的物質(zhì)的混合過程。工業(yè)分散的目標(biāo)是在連續(xù)相中實現(xiàn)“令人滿意的”納米精細分布。 

詳情請接洽上海依肯,段,手機,(同號) 

納米ATOTO(銻摻雜氧化錫)為多為灰白色-藍色粉體,具有耐化學(xué)性、耐酸、耐堿、耐光、耐有機溶劑、不氧化、阻燃、耐高溫、耐腐蝕、機械穩(wěn)定性好等特點。

:ATO(錫摻雜氧化錫)具有優(yōu)良的電學(xué)和光學(xué)性質(zhì).利用起良好的導(dǎo)電性,作為抗靜電劑廣泛應(yīng)用在涂料、化纖、高分子膜等領(lǐng)域,在耐活性、熱塑性、耐磨性、分散性、安全性等方面遠好于其他抗靜電材料,如石墨、表面活性劑、金屬粉等,此外在光電顯示器件、透明電極、太陽能電池、液晶顯示、催化等方面亦顯示其優(yōu)點。

 用于平面液晶顯示(LCD),電子發(fā)光顯示(ELD),電子彩色顯示(ECD); 
2、 太陽能電池透明電極; 
3、 用于熱反射鏡,建筑物的玻璃幕墻起熱屏蔽作用,節(jié)省能源; 
4、 在汽車、火車、飛機等交通工具的玻璃窗上形成防霧除霜玻璃; 
5、 利用它對微波的衰減性,可用在計算機房、雷達屏蔽保護區(qū)等需要屏蔽電磁波的領(lǐng)域。  

 

顆粒細化到納米級后,其表面積累了大量的正、負電荷,納米顆粒的形狀極不規(guī)則,這樣造成了電荷的聚集。納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加,當(dāng)降至1nm時,表面原子比例高達90%,原子幾乎全部集中到顆粒表面,處于高度活化狀態(tài),導(dǎo)致表面原子配位數(shù)不足和高表面能。納米顆粒具有很高的化學(xué)活性,表現(xiàn)出強烈的表面效應(yīng),很容易發(fā)生聚集而達到穩(wěn)定狀態(tài),從而團聚發(fā)生

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目前,國內(nèi)產(chǎn)品質(zhì)量較好的企業(yè)使用的分散方式主要采取一步法的高速剪切分散,能基本滿足用戶的需要。由于我們行業(yè)的特點,有相當(dāng)多的中小企業(yè)分散設(shè)備十分落后,分散時根本形成不了剪切力,只是一種攪拌,氣相二氧化硅在樹脂中根本形成不了網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),從而無法發(fā)揮材料的性能。造成這種情況的主要原因① 尚未對分散的作用有正確的認識.許多生產(chǎn)商并未意識到分散的重要性;② 不知道對***終產(chǎn)品的品質(zhì)如何評價,

 

高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是***重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,依肯公司在ER2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出ERS2000超高速分散機。其剪切速率可以超過100.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設(shè)備。分散頭

影響分散乳化均質(zhì)結(jié)果的因素有以下幾點

 

 

1 分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)

2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)

3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)

4 物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)

5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)

 

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) 
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

– 轉(zhuǎn)子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

 

速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)轉(zhuǎn)速 RPM / 60

 

 

    超高速分散機的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是***重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,依肯公司在ERS2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出ERX2000超高速剪切分散機。其剪切速率可以超過200.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達到66m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設(shè)備,可以達到普通的高壓均質(zhì)機的400BAR壓力下的顆粒大小.

    超高速分散機是高效、快速、均勻地將一個相或多個相(液體、固體)進入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程的設(shè)備的設(shè)備。當(dāng)其中一種或者多種材料的細度達到微米數(shù)量級時,甚至納米級時,體系可被認為均質(zhì)。當(dāng)外部能量輸入時,兩種物料重組成為均一相。高剪切均質(zhì)機由于轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機械效應(yīng)帶來的強勁動能,使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,形成懸浮液(固/液),乳液(液體/液體)和泡沫(氣體/液體)。高剪切均質(zhì)機從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)熟工藝和適量添加劑的共同作用下,瞬間均勻精細的分散乳化,經(jīng)過高頻管線式高剪切分散均質(zhì)乳化機的循環(huán)往復(fù),***終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。

   

超高速分散機設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級 
超高速分散機電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、氣動馬達
超高速分散機電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
超高速分散機材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti
超高速分散機表面處理:拋光、耐磨處理 
超高速分散機進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍 


超高速分散機

標(biāo)準流量(H2O)

輸出轉(zhuǎn)速

標(biāo)準線速度

馬達功率

進出口尺寸

型號

l/h

rpm

m/s

kW

 

ERX 2000/4

700

20000

66

2.2

DN25/DN15

ERX 2000/5

1,500

15,750

66

7.5

DN40 /DN 32

ERX 2000/10

5,000

10,950

66

22

DN50 / DN50

ERX 2000/20

10,000

7,300

66

37

DN80 /DN 65

ERX 2000/30

30,000

4,000

66

75

DN150 /DN 125

ERX 2000/50

50,000

3,000

66

160

DN200 /DN 150

 

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度,稠度和***終產(chǎn)品的要求。

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