黑磷烯納米分散液分散機(jī)，新型二維半導(dǎo)體材料研磨分散機(jī)，黑磷烯納米分散液均質(zhì)機(jī)，黑磷烯納米分散液混合機(jī)，黑磷烯納米分散液制備分散機(jī)，二維黑磷研磨分散機(jī)
IKN研磨分散機(jī)采用整體式機(jī)械密封，zui大程度上解決了高速運轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題，安裝與更換方便快捷.采用國x先x的受控切割技術(shù)，將纖維類物料粉碎細(xì)度控制在設(shè)定范圍之內(nèi)，滿足生產(chǎn)中的粗、細(xì)及超細(xì)濕法粉碎的要求
黑磷是黑色有金屬光澤的晶體，是用白磷在很高壓強(qiáng)和較高溫度下轉(zhuǎn)化而形成的。 黑磷在磷的同素異形體中反應(yīng)活性很弱的，它在空氣中不會點燃。
黑磷納米分散液特性及應(yīng)用：
1.特性：
厚度：1-10層
片徑：100 nm-5μm
濃度：0.2 mg/ml
2.應(yīng)用：
1.半導(dǎo)體
2.場效應(yīng)晶體管（FET）
3.各向異性
4.光電平臺
5.透明電子
6.寬帶偏振器
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黑磷烯納米分散液的制備方法：
將黑磷塊體浸入有機(jī)溶劑中，并進(jìn)行攪拌，其中，所述攪拌的轉(zhuǎn)速為8000-14000轉(zhuǎn)/分，所述攪拌的時間為20-30h；再將上述攪拌后得到的溶液進(jìn)行低速離心，收集上清液，并對所述上清液進(jìn)行高速離心，去除上清液，收集固體沉淀，所述固體沉淀即大尺寸黑磷片。該方法操作簡單、條件溫和、價格低廉、重現(xiàn)性好、產(chǎn)量高，制備過程無需震蕩、超聲，易實現(xiàn)低成本產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)。所述大尺寸黑磷片的橫向尺寸為5-25m，可應(yīng)用于光電器件或傳感器制備等領(lǐng)域。
針對黑鱗未來市場的應(yīng)用前景，上海IKN/依肯公司結(jié)合德國核心技術(shù)研發(fā)出了新型黑磷納米片分散液制備機(jī)械——IKN黑磷納米片分散液研磨分散機(jī)，該設(shè)備是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的設(shè)備，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，擁有強(qiáng)大的剪切力。
IKN結(jié)構(gòu)：
IKN分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細(xì)度遞升的3級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。
IKN研磨分散機(jī)選型表：
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150
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